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講義科目名 電磁応用工学特論 
講義題目
授業科目区分 専攻授業科目又は関連授業科目(major courses or related courses) 
開講年度 2017 
開講学期 後期 
曜日時限 後期 木曜日 3時限
必修選択 学府要項を確認のこと。(refer to the Guidelines for IGSES) 
単位数
担当教員

吉武 剛

開講学部・学府 総合理工学府 
対象学部等 総合理工学府(IGSES) 
対象学年 修士課程(Master’s Program) 
開講地区 筑紫地区
その他
(自由記述欄)



履修条件
特になし 
授業概要
本講義は,「薄膜工学」をメインテーマとして話を進める.
薄膜技術は情報・エネルギー・通信などの今日の中心的産業と密接に関連し,最近のめざましい産業の発達にとって不可欠なものとなっている.技術内容は広範囲にわたっているが,研究者や技術者が実際に利用する技術は特定の目的のために専門化・特殊化されている場合が多い.本講義では,それらの詳細な点にはふれずに,底流にある基本技術や重要な点を説明して,全体像を把握・理解してもらうことを目的とする.
以下に示すように,薄膜の基本的概念に関して幅広く講義を行う.

真空の基礎と技術
蒸発現象
薄膜成長I ― 基礎 ―
薄膜成長II ― ヘテロエピタキシー ―
薄膜成長III ― 計算機シミュレーション ―
薄膜の評価
物理気相成長法
化学気相成長法 
This class introduces technologies and physics concerning thin solid films. Thin films technologies have been employed for a variety of engineering applications, and it is indispensable for present electronics. Important physical concept and principles of the fabrication and evaluation of films are mainly explained. Concretely, the class deals with the following contents: 1) elementary vacuum science and technology; 2) evaporation; 3) thin film growth; 4) epitaxial growth; 5) evaluation of thin films; 6) physical vapor deposition; and 7) chemical vapor deposition. 
全体の教育目標
固体物理,電子物性を基盤として,薄膜工学を包括的に習得する. 
個別の教育目標
授業計画
キーワード
授業の進め方
講義と演習を交えて行う. 
テキスト
下記のサイトに講義資料や演習問題の解答例を掲示する.アクセスするためのパスワードは講義において連絡する.
http://yoshitake.private.coocan.jp/lecture/film/ 
参考書
Materials Science of Thin Films, Milton Ohring, Academic Press 
学習相談
随時受け付ける. 
試験/成績評価の方法等
レポートにより行う. 
その他
添付ファイル
更新日付 2017/04/04 11:09


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